JPH079333Y2 - イオン発生装置 - Google Patents
イオン発生装置Info
- Publication number
- JPH079333Y2 JPH079333Y2 JP13032090U JP13032090U JPH079333Y2 JP H079333 Y2 JPH079333 Y2 JP H079333Y2 JP 13032090 U JP13032090 U JP 13032090U JP 13032090 U JP13032090 U JP 13032090U JP H079333 Y2 JPH079333 Y2 JP H079333Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion source
- ion
- vacuum chamber
- extraction electrode
- reflecting mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13032090U JPH079333Y2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | イオン発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13032090U JPH079333Y2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | イオン発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0487155U JPH0487155U (en]) | 1992-07-29 |
JPH079333Y2 true JPH079333Y2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=31877673
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13032090U Expired - Lifetime JPH079333Y2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | イオン発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH079333Y2 (en]) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6166026B2 (ja) * | 2012-09-19 | 2017-07-19 | 株式会社アルバック | イオン照射装置 |
DE112018006577B4 (de) * | 2018-02-28 | 2024-08-01 | Hitachi High-Tech Corporation | Ionenfräsvorrichtung und Ionenquellen-Justierverfahren für Ionenfräsvorrichtung |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP13032090U patent/JPH079333Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0487155U (en]) | 1992-07-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH088245B2 (ja) | 集束イオンビームエッチング装置 | |
JP6646150B2 (ja) | イオンミリング装置 | |
JP6943641B2 (ja) | 試料ホルダーシステム及び試料観察装置 | |
GB1507366A (en) | Electron microscope | |
JPH079333Y2 (ja) | イオン発生装置 | |
EP0390118A3 (en) | Field emission scanning electron microsope and method of controlling beam aperture angle | |
JP2842083B2 (ja) | 試料ホルダー、これを用いた試料加工観察システム、試料観察方法、透過形電子顕微鏡及びイオンビーム装置 | |
JPH0234415B2 (en]) | ||
JPH06124680A (ja) | 2次中性粒子質量分析装置 | |
JPS584424B2 (ja) | イオンビ−ム形成方法 | |
TWI766500B (zh) | 離子研磨裝置 | |
JP3085390B2 (ja) | 荷電ビーム局所処理装置 | |
JP2590146B2 (ja) | イオン加工装置 | |
JPH03165447A (ja) | レーザイオン化飛行時間型質量分析計 | |
JP2001107234A (ja) | グリッド隙間可変型イオンガン | |
JPH0554844A (ja) | 電子顕微鏡用の金属膜蒸着装置 | |
JPS63141247A (ja) | イオンビ−ム装置 | |
JPH04196407A (ja) | 集束イオンビーム装置の軸合わせ方法 | |
JP3055346U (ja) | 電子顕微鏡用試料作製装置 | |
JPH03239945A (ja) | イオンミリング装置 | |
JPH07335551A (ja) | レーザアブレーション装置 | |
JP2621752B2 (ja) | 集束イオンビーム蒸着装置 | |
JPH01211848A (ja) | イオン注入方法およびイオン注入装置 | |
JPS5927383B2 (ja) | イオンビ−ム薄膜作成装置 | |
JPH01304650A (ja) | 質量分析計 |